Invention Grant
- Patent Title: 用于沉积含硅膜的有机氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷
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Application No.: CN202111612772.7Application Date: 2018-02-08
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Publication No.: CN114318291BPublication Date: 2025-04-01
- Inventor: 萧满超 , M·R·麦克唐纳 , 雷新建 , 王美良
- Applicant: 弗萨姆材料美国有限责任公司
- Applicant Address: 美国亚利桑那州
- Assignee: 弗萨姆材料美国有限责任公司
- Current Assignee: 弗萨姆材料美国有限责任公司
- Current Assignee Address: 美国亚利桑那州
- Agency: 北京市金杜律师事务所
- Agent 吴亦华; 徐一琨
- Priority: 62/456,297 20170208 US 62/574,952 20171020 US 15/883,815 20180130 US
- Main IPC: C07F7/02
- IPC: C07F7/02
Abstract:
本文公开了具有至少两个硅原子和两个氧原子以及有机氨基基团的氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷以及用于制备所述低聚硅氧烷的方法。本文还公开了使用所述有机氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷沉积含硅和氧的膜的方法。
Public/Granted literature
- CN114318291A 用于沉积含硅膜的有机氨基官能化线性和环状低聚硅氧烷 Public/Granted day:2022-04-12
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