• 专利标题: 一种半导体用晶圆扩晶系统
  • 申请号: CN202111410268.9
    申请日: 2021-11-25
  • 公开(公告)号: CN114242635A
    公开(公告)日: 2022-03-25
  • 发明人: 许霞仂
  • 申请人: 许霞仂
  • 申请人地址: 江西省抚州市临川区迎宾大道688号
  • 专利权人: 许霞仂
  • 当前专利权人: 许霞仂
  • 当前专利权人地址: 江西省抚州市临川区迎宾大道688号
  • 主分类号: H01L21/68
  • IPC分类号: H01L21/68 H01L21/67
一种半导体用晶圆扩晶系统
摘要:
本发明公开了一种半导体用晶圆扩晶系统,包括机壳,机壳内设有动力腔,动力腔左右两侧端面内对称设有两个带轮腔,动力腔下端壁内设有偏轴轮腔,机壳内设有扩晶机构、辅助机构、传动机构,扩晶机构能够对晶圆进行挤压,使晶圆产生塑形变形,实现晶圆的扩晶,辅助机构能够完成扩晶过程中加热,贴蓝膜等辅助工作,传动机构能够为扩晶机构、辅助机构提供动力,通过扩晶机构中设有的能够平移运动的扶正板,从而能够调整晶圆位置,从而保证晶圆扩晶时位置处于放置腔中间位置,通过辅助机构中设有的能够自动旋转放料、卷料的放卷轮,从而实现蓝膜的自动覆盖晶圆,保证扩晶质量,通过扩晶机构中设有的能够旋转切割蓝膜的切割刀,从而实现自动切割蓝膜。
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