发明公开
- 专利标题: 基于光电材料修饰的光能/渗透能集成的仿生纳流体器件
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申请号: CN202111356056.7申请日: 2021-11-16
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公开(公告)号: CN114094874A公开(公告)日: 2022-02-25
- 发明人: 范霞 , 张亮倩
- 申请人: 北京航空航天大学
- 申请人地址: 北京市海淀区学院路37号
- 专利权人: 北京航空航天大学
- 当前专利权人: 北京航空航天大学
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区学院路37号
- 代理机构: 北京慕达星云知识产权代理事务所
- 代理商 崔自京
- 主分类号: H02N11/00
- IPC分类号: H02N11/00 ; H02N3/00 ; F03G7/00 ; B82Y40/00 ; B82Y30/00
摘要:
本发明公开了基于光电材料修饰的光能/渗透能集成的仿生纳流体器件,属于仿生纳流体器件技术领域;基于光电材料修饰的光能/渗透能集成的膜材料包括子弹型氧化铝纳米通道膜和无机氧化物纳米层;子弹型氧化铝纳米通道膜上具有多个子弹型纳米通道,子弹型纳米通道的两端分别为大孔端和小孔端,多个子弹型纳米通道的大孔端位于子弹型氧化铝纳米通道膜的同一侧;无机氧化物纳米层覆合于子弹型氧化铝纳米通道膜具有大孔端的一侧,由硅烷偶联剂改性的无机氧化物纳米颗粒制成。并且公开了膜材料的制备方法。基于本发明膜材料制备的仿生纳流体器件具有高离子通量和较好的离子选择性,在能量转换应用中表现出较高的渗透能量转换性能。
公开/授权文献
- CN114094874B 基于光电材料修饰的光能/渗透能集成的仿生纳流体器件 公开/授权日:2023-07-21