发明授权
- 专利标题: 半导体结构
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申请号: CN202110544908.9申请日: 2021-05-19
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公开(公告)号: CN113745172B公开(公告)日: 2023-08-29
- 发明人: 陈宪伟
- 申请人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹
- 专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人: 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹
- 代理机构: 北京德恒律治知识产权代理有限公司
- 代理商 章社杲; 李伟
- 主分类号: H01L23/18
- IPC分类号: H01L23/18 ; H01L23/00
摘要:
半导体结构包括:衬底,具有密封环区域和电路区域;一个或多个介电层,设置在衬底上;连接结构,设置在密封环区域中的一个或多个介电层中,其中,连接结构包括金属层的堆叠件和连接金属层的堆叠件的金属通孔;以及金属插塞,设置在衬底和密封环区域中的连接结构之间,其中,金属插塞在截面图中具有多台阶轮廓。
公开/授权文献
- CN113745172A 半导体结构 公开/授权日:2021-12-03
IPC分类: