Invention Grant
- Patent Title: 介质供给机构
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Application No.: CN202110522411.7Application Date: 2021-05-13
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Publication No.: CN113734838BPublication Date: 2023-06-27
- Inventor: 宫地亮介 , 饭冈让
- Applicant: 理想科学工业株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 理想科学工业株式会社
- Current Assignee: 理想科学工业株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京林达刘知识产权代理事务所
- Agent 刘新宇; 张会华
- Priority: 2020-092216 20200527 JP 2020-092217 20200527 JP 2021-053050 20210326 JP
- Main IPC: B65H3/12
- IPC: B65H3/12 ; B65H5/06 ; B65H7/02

Abstract:
本发明提供一种介质供给机构。其抑制由被在具有弯曲部分的输送路径上输送的介质的种类导致的到达时间的变动。介质供给机构具备:作为供给部的一个例子的第1供给部和第2供给部,它们供给介质;作为输送路径的一个例子的第1单独输送路径、第2单独输送路径和汇合输送路径,它们具有弯曲部分(第1弯曲部分~第4弯曲部分),且与所述第1供给部和第2供给部连结;作为输送部的一个例子的第1输送辊对~第9输送辊对和接收辊对,它们在该输送路径上输送介质;以及控制部,其对第1输送辊对~第9输送辊对进行控制。该控制部根据介质的作为介质信息的一个例子的厚度和介质的输送路径形状来调整基于第1输送辊对~第9输送辊对的介质的输送速度。
Public/Granted literature
- CN113734838A 介质供给机构 Public/Granted day:2021-12-03
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