发明公开
CN113444581A 清洗组成物
审中-实审
- 专利标题： 清洗组成物
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申请号： CN202110564251.2申请日： 2021-05-24
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公开(公告)号： CN113444581A公开(公告)日： 2021-09-28
- 发明人: 崔骥 , 洪伟伦 , 黄俊程 , 孙旭昌 , 陈科维
- 申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 申请人地址： 中国台湾新竹市
- 专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人： 台湾积体电路制造股份有限公司
- 当前专利权人地址： 中国台湾新竹市
- 代理机构： 隆天知识产权代理有限公司
- 代理商 黄艳
- 优先权： 63/031,292 20200528 US 17/191,534 20210303 US
- 主分类号： C11D1/00
- IPC分类号： C11D1/00 ; C11D1/14 ; C11D1/22 ; C11D1/62 ; C11D1/66 ; C11D1/72 ; C11D1/75 ; C11D1/82 ; C11D3/04 ; C11D3/20 ; C11D3/24 ; C11D3/37 ; C11D3/26 ; C11D3/30 ; C11D3/32 ; C11D3/34 ; C11D3/60 ; H01L21/02 ; H01L21/8238
摘要：
一种清洗组成物，用于化学机械研磨制程后，清洗包含硅锗的基板表面。上述清洗组成物，包括：一寡聚型或高分子型聚胺；至少一润湿剂；一pH调节剂；以及一溶剂。
