发明公开
CN113421929A 半导体装置
审中-实审
- 专利标题: 半导体装置
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申请号: CN202110701603.4申请日: 2013-11-15
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公开(公告)号: CN113421929A公开(公告)日: 2021-09-21
- 发明人: 佐藤贵洋 , 中泽安孝 , 长隆之 , 越冈俊介 , 德永肇 , 神长正美
- 申请人: 株式会社半导体能源研究所
- 申请人地址: 日本神奈川
- 专利权人: 株式会社半导体能源研究所
- 当前专利权人: 株式会社半导体能源研究所
- 当前专利权人地址: 日本神奈川
- 代理机构: 中国贸促会专利商标事务所有限公司
- 代理商 刘倜
- 优先权: 2012-251794 20121116 JP
- 主分类号: H01L29/786
- IPC分类号: H01L29/786 ; H01L29/06 ; H01L29/04
摘要:
本发明涉及一种半导体装置及其制造方法,赋予使用氧化物半导体膜的晶体管稳定的电气特性。另外,赋予使用氧化物半导体膜的晶体管具有优良的电气特性。另外,本发明提供一种具有该晶体管的高可靠性的半导体装置。关于具有层叠有氧化物半导体膜及氧化物膜的多层膜、栅电极以及栅极绝缘膜的晶体管,多层膜经由栅极绝缘膜而重叠于所述栅电极地设置,多层膜是具有由氧化物半导体膜的下表面与氧化物半导体膜的侧面所呈的第一角度、以及由氧化物膜的下表面与氧化物膜的侧面所呈的第二角度的形状,并且,第一角度小于第二角度且被设为锐角。另外,通过使用该晶体管来制造半导体装置。
IPC分类: