发明授权
- 专利标题： 用于金属的化学机械抛光的组合物及方法
-
申请号： CN201980080181.4申请日： 2019-11-13
-
公开(公告)号： CN113166587B公开(公告)日： 2022-05-17
- 发明人: S.克拉夫特 , F.孔罗 , D.克林格曼 , R.A.伊瓦诺夫 , S.格伦宾
- 申请人： CMC材料股份有限公司
- 申请人地址： 美国伊利诺伊州
- 专利权人： CMC材料股份有限公司
- 当前专利权人： CMC材料股份有限公司
- 当前专利权人地址： 美国伊利诺伊州
- 优先权： 16/208,742 20181204 US
- 国际申请： PCT/US2019/061253 2019.11.13
- 国际公布： WO2020/117439 EN 2020.06.11
- 进入国家日期： 2021-06-03
- 主分类号： C09G1/02
- IPC分类号： C09G1/02 ; C09K3/14 ; B24B37/005 ; B24B37/04 ; B24B57/02
摘要：
用于对基板进行抛光的化学机械抛光组合物，其包含：液体载剂；以及分散于该液体载剂中的阳离子型金属氧化物研磨剂颗粒。该阳离子型金属氧化物研磨剂颗粒具有经至少一种化合物改性的表面，该至少一种化合物由具有至少一个季铵基的甲硅烷基组成。用于对包括金属层的基板进行化学机械抛光的方法，其包括：使该基板与上述抛光组合物接触，相对于该基板移动该抛光组合物，以及研磨该基板以自该基板移除该金属层的一部分且由此对该基板进行抛光。
公开/授权文献
- CN113166587A 用于金属的化学机械抛光的组合物及方法 公开/授权日：2021-07-23
