- 专利标题： 形成光学格栅组件的方法与测量光学格栅的性质的系统
-
申请号： CN201980073952.7申请日： 2019-10-31
-
公开(公告)号： CN113039464B公开(公告)日： 2023-09-05
- 发明人: 约瑟·C·欧尔森 , 卢多维克·葛特 , 鲁格·迈尔提摩曼提森 , 摩根·艾文斯
- 申请人： 应用材料股份有限公司
- 申请人地址： 美国加州圣塔克拉尔,鲍尔斯大道3050号(邮递区号:95054)
- 专利权人： 应用材料股份有限公司
- 当前专利权人： 应用材料股份有限公司
- 当前专利权人地址： 美国加州圣塔克拉尔,鲍尔斯大道3050号(邮递区号:95054)
- 代理机构： 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 杨贝贝; 臧建明
- 国际申请： PCT/US2019/059053 2019.10.31
- 国际公布： WO2020/101904 EN 2020.05.22
- 进入国家日期： 2021-05-10
- 主分类号： G02B5/18
- IPC分类号： G02B5/18
摘要：
提供形成光学格栅组件的方法与测量光学格栅的性质的系统。在一些实施例中，一种方法包括提供光学格栅层以及在光学格栅层中形成光学格栅，其中光学格栅包括相对于光学格栅层的平面的垂直线以非零倾斜角设置的多个斜角沟槽。所述方法可还包括将来自光源的光传送至光学格栅层中以及测量以下中的至少一者：光的离开光学格栅层的非绕射部分及光的离开光学格栅层的绕射部分。
公开/授权文献
- CN113039464A 用于检测斜角表面浮雕格栅的蚀刻深度的系统与方法 公开/授权日：2021-06-25
