发明公开
- 专利标题: 包含涂敷于纳米粒子载体表面的T1造影物质的磁共振成像造影剂
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申请号: CN202110053435.2申请日: 2014-01-03
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公开(公告)号: CN112807449A公开(公告)日: 2021-05-18
- 发明人: 千珍宇 , 申泰铉
- 申请人: 茵温特拉制药公司
- 申请人地址: 韩国忠清北道
- 专利权人: 茵温特拉制药公司
- 当前专利权人: 茵温特拉制药公司
- 当前专利权人地址: 韩国忠清北道
- 代理机构: 中国贸促会专利商标事务所有限公司
- 代理商 郑天松
- 优先权: 10-2013-0001002 20130104 KR
- 主分类号: A61K49/18
- IPC分类号: A61K49/18 ; A61K49/08 ; A61K49/12 ; A61K49/14 ; A61K49/06
摘要:
本发明涉及包含涂敷于纳米粒子载体表面的T1造影物质的磁共振成像(MRI,Magnetic Resonance Imaging)T1造影剂组合物。本发明的磁共振成像T1造影剂组合物以规定厚度以下将顺磁性T1造影剂物质改性于具有规定的直径的纳米粒子载体,来使T1造影剂物质的表面积‑体积比(surface‑to‑volume ratio)大大增加,从而具有优秀的T1磁自旋弛豫效果。本发明提供更准确且鲜明的T1阳性造影(positive contrast)影像,从而可有用地利用于可靠度高的影像诊断。