Invention Grant
- Patent Title: 紫外和可见光共透镜双光路成像探测系统及其制作方法
-
Application No.: CN202011350398.3Application Date: 2020-11-26
-
Publication No.: CN112684522BPublication Date: 2021-12-31
- Inventor: 周易 , 李伟 , 甘峰源 , 王磊 , 杨雪雷 , 蓝盾
- Applicant: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- Applicant Address: 上海市长宁区长宁路865号
- Assignee: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- Current Assignee: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所
- Current Assignee Address: 上海市长宁区长宁路865号
- Agency: 上海智信专利代理有限公司
- Agent 邓琪
- Main IPC: G02B3/00
- IPC: G02B3/00 ; G01R31/12

Abstract:
本发明提供了一种紫外和可见光共透镜双光路成像探测系统,包括依次设置的超表面透镜、两探测器和图像处理系统,超表面透镜的微纳结构超表面为具有相同的高度、指向角度和不同的横截面尺寸的微纳结构的阵列;各微纳结构的横截面尺寸基于微纳结构的参数空间和电磁波经过各微纳结构后的相位分布确定;相位分布根据成像要求来确定,成像要求是:超表面透镜在可见光和紫外光的工作波段下的焦点是同一焦平面上的第一和第二焦点;参数空间通过基于时域有限差分算法的电磁仿真手段对横截面尺寸进行参数扫描,来建立;两探测器的探头位于第一和第二焦点。本发明还提供其制作方法。该系统可在实现电晕检测功能的同时,兼顾系统的小型化、轻量化。
Public/Granted literature
- CN112684522A 紫外和可见光共透镜双光路成像探测系统及其制作方法 Public/Granted day:2021-04-20
Information query