DC和RF信号的多电平脉冲化
摘要:
描述了用于射频(RF)信号的参数的多电平脉冲化和频率的多电平脉冲化的系统和方法。RF信号通过匹配器被施加到衬底支撑件。参数从低电平脉冲化到高电平,同时频率从低电平脉冲化到高电平。另外,将直流(DC)参数施加到衬底支撑件或将另一RF信号施加到上电极。施加到衬底支撑件的RF信号的参数和频率与施加到上电极的DC参数或RF信号同时脉冲化,以提高晶片的处理速度,增大掩模的选择性并减小等离子体室内的离子的角展度。
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