发明授权
- 专利标题: 被覆构件及其制造方法
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申请号: CN201980014445.6申请日: 2019-02-15
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公开(公告)号: CN111771011B公开(公告)日: 2022-07-05
- 发明人: 小関秀峰 , 进野大树
- 申请人: 日立金属株式会社
- 申请人地址: 日本东京港区港南一丁目2番70号
- 专利权人: 日立金属株式会社
- 当前专利权人: 日立金属株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京港区港南一丁目2番70号
- 代理机构: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 马爽; 臧建明
- 优先权: 2018-032834 20180227 JP
- 国际申请: PCT/JP2019/005573 2019.02.15
- 国际公布: WO2019/167674 JA 2019.09.06
- 进入国家日期: 2020-08-20
- 主分类号: C23C14/06
- IPC分类号: C23C14/06 ; B23B27/14 ; B29C33/38 ; C23C14/14
摘要:
一种被覆构件及其制造方法,被覆构件抑制因熔滴而引起的点腐蚀的产生或粒界腐蚀的产生,即便产生微小的点腐蚀或粒界腐蚀,也能够抑制发展至基材。一种被覆构件,在基材的表面具有硬质皮膜,所述硬质皮膜包括:A层,选自Cr或CrM的氮化物、碳氮化物、氧氮化物、碳氧氮化物(M为周期表的4族金属、5族金属、6族金属、Al、Si、B中的一种或两种以上);金属层,形成于较A层更靠外表面侧,且包含Cr、Ti或W;及B层,形成于较金属层更靠外表面侧,且选自Cr或CrM的氮化物、碳氮化物、氧氮化物、碳氧氮化物(M为周期表的4族金属、5族金属、6族金属、Al、Si、B中的一种或两种以上),所述金属层的外表面侧导入了应变。
公开/授权文献
- CN111771011A 被覆构件及其制造方法 公开/授权日:2020-10-13
IPC分类: