- 专利标题： 修饰的高丝氨酸脱氢酶和使用其产生高丝氨酸或高丝氨酸衍生的L-氨基酸的方法
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申请号： CN201980001540.2申请日： 2019-04-10
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公开(公告)号： CN111601886B公开(公告)日： 2021-11-23
- 发明人: 权秀渊 , 李光雨 , 许兰 , 金径林 , M·白 , 孙承珠 , 李在旼
- 申请人： CJ第一制糖株式会社
- 申请人地址： 韩国首尔
- 专利权人： CJ第一制糖株式会社
- 当前专利权人： CJ第一制糖株式会社
- 当前专利权人地址： 韩国首尔
- 代理机构： 北京纪凯知识产权代理有限公司
- 代理商 金德善
- 优先权： 10-2018-0167599 20181221 KR
- 国际申请： PCT/KR2019/004250 2019.04.10
- 国际公布： WO2020/130236 KO 2020.06.25
- 进入国家日期： 2019-08-30
- 主分类号： C12N9/04
- IPC分类号： C12N9/04 ; C12N15/52 ; C12N15/77 ; C12P13/06 ; C12P13/08
摘要：
本公开涉及修饰的高丝氨酸脱氢酶和使用其产生高丝氨酸或高丝氨酸衍生的L‑氨基酸的方法。
公开/授权文献
- CN111601886A 修饰的高丝氨酸脱氢酶和使用其产生高丝氨酸或高丝氨酸衍生的L-氨基酸的方法 公开/授权日：2020-08-28
