本发明涉及一种清洗设备，包括清洗槽、位于清洗槽内部的底盘、位于底盘正上方的超声波清洗器、过滤罐、第一阀门、第二阀门、位于过滤罐上方的硬管，底盘与清洗槽的槽底之间安装有多个支撑板，超声波清洗器的下部设置有槽口朝下设置的超声波清洗槽，超声波清洗槽的槽底中央设置有第一贯穿孔，超声波清洗器的上部安装有与第一贯穿孔相连通的管接头，硬管与管接头之间设置有软管，过滤罐包括罐体、设置在罐体内部的滤芯、安装在罐体灌口处的罐盖。该清洗设备的操作简单，清洗方便，能够有效对硅电极在小孔加工过程中形成的半成品进行彻底清洗，避免硅泥等杂质滞留在小孔内壁。