- 专利标题： 用于3D NAND和DRAM应用的含有-NH2官能团的氢氟烃
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申请号： CN201880070762.5申请日： 2018-10-31
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公开(公告)号： CN111316405A公开(公告)日： 2020-06-19
- 发明人: 孙卉 , 法布里齐奥·马切吉亚尼 , 詹姆斯·罗耶 , 南森·斯塔福德 , 拉胡尔·古普塔
- 申请人： 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司
- 申请人地址： 法国巴黎
- 专利权人： 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司
- 当前专利权人： 乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司
- 当前专利权人地址： 法国巴黎
- 代理机构： 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 马爽; 臧建明
- 优先权： 15/798,476 2017.10.31 US
- 国际申请： PCT/US2018/058472 2018.10.31
- 国际公布： WO2019/089766 EN 2019.05.09
- 进入国家日期： 2020-04-28
- 主分类号： H01L21/3065
- IPC分类号： H01L21/3065
摘要：
一种方法，该方法用于使用选自由以下各项组成的组的氢氟烃蚀刻化合物：2,2,2-三氟乙胺(C2H4F3N)、1,1,2-三氟乙-1-胺(异-C2H4F3N)、2,2,3,3,3-五氟丙胺(C3H4F5N)、1,1,1,3,3-五氟-2-丙胺(异-C3H4F5N)、1,1,1,3,3-五氟-(2R)-2-丙胺(异-2R-C3H4F5N)和1,1,1,3,3-五氟-(2R)-2-丙胺(异-2S-C3H4F5N)、1,1,1,3,3,3-六氟异丙胺(C3H3F6N)和1,1,2,3,3,3-六氟-1-丙胺(异-C3H3F6N)，或选自由以下各项组成的组的氢氟烃蚀刻化合物：1,1,1,3,3,3-六氟异丙胺(C3H3F6N)和1,1,2,3,3,3-六氟-1-丙胺(异-C3H3F6N)相对于图案化光致抗蚀剂层选择性地等离子蚀刻介电减反射涂层(DARC)从而在该DARC层中产生孔。
公开/授权文献
- CN111316405B 用于3D NAND和DRAM应用的含有-NH2官能团的氢氟烃 公开/授权日：2023-04-04
IPC分类:
