发明公开
CN111206977A 通道式还原剂混合装置
审中-公开
- 专利标题: 通道式还原剂混合装置
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申请号: CN201911129343.7申请日: 2019-11-18
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公开(公告)号: CN111206977A公开(公告)日: 2020-05-29
- 发明人: Y·易 , S·V·沙 , I·阿奎尔 , Y·T·布伊 , A·尤亚勒 , E·雷姆 , A·C·罗德曼
- 申请人: 卡特彼勒公司
- 申请人地址: 美国伊利诺伊州
- 专利权人: 卡特彼勒公司
- 当前专利权人: 卡特彼勒公司
- 当前专利权人地址: 美国伊利诺伊州
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 周文聘; 吴鹏
- 优先权: 16/198045 2018.11.21 US
- 主分类号: F01N3/20
- IPC分类号: F01N3/20
摘要:
一种还原剂冲击装置,包括具有带凸面的冲击销的近端;以及具有与冲击销的纵向轴线同心的主体的远端。远端包括第一表面和与第一表面相对的第二表面。多个内通道连接第一表面和第二表面,并且多个外通道连接第一表面和第二表面,其中多个内通道以与冲击销的纵向轴线相距第一径向距离的圆形阵列设置,并且多个外通道以与冲击销的纵向轴线相距第二距离的圆形阵列设置。
IPC分类: