- 专利标题: 一种Si衬底上InGaN纳米柱@Ti-Ni纳米粒子复合结构及其制备方法与应用
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申请号: CN201911259096.2申请日: 2019-12-10
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公开(公告)号: CN111036263B公开(公告)日: 2021-03-30
- 发明人: 李国强 , 林静 , 余粤锋 , 张志杰
- 申请人: 华南理工大学
- 申请人地址: 广东省广州市天河区五山路381号
- 专利权人: 华南理工大学
- 当前专利权人: 华南理工大学
- 当前专利权人地址: 广东省广州市天河区五山路381号
- 代理机构: 广州市华学知识产权代理有限公司
- 代理商 桂婷
- 主分类号: B01J27/24
- IPC分类号: B01J27/24 ; B01J35/02 ; C25B1/55 ; C25B1/04 ; C25B11/091 ; C25B11/059 ; C25B11/052
摘要:
本发明属于催化剂领域,具体公开了一种生长在Si衬底上InGaN纳米柱@Ti‑Ni纳米粒子复合结构及其制备方法与应用。该复合结构包括Si衬底以及生长在Si衬底上的InGaN纳米柱@Ti‑Ni纳米粒子复合材料。本发明制备的Ti‑Ni双金属纳米结构助催化剂具有更佳的可调性和协同效应,能增强InGaN纳米柱光生载流子分离与转移效率,提高反应活性位点,显著提高InGaN纳米柱的光电转换效率;同时,该制备方法工艺简单、成本低,为其它半导体复合催化材料的制备提供了一种新型的思路。最后,本发明公开的Si衬底上InGaN纳米柱@Ti‑Ni纳米粒子复合材料,禁带宽度在0.67~3.4eV范围可调,具有较大的比表面积,对太阳光有较强的吸收,适用于光电解水产氢。
公开/授权文献
- CN111036263A 一种Si衬底上InGaN纳米柱@Ti-Ni纳米粒子复合结构及其制备方法与应用 公开/授权日:2020-04-21