发明授权
- 专利标题: 一种可图形化的宽波段吸收器及其制备方法
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申请号: CN201911296593.X申请日: 2019-12-16
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公开(公告)号: CN111025439B公开(公告)日: 2021-03-05
- 发明人: 沈伟东 , 王震 , 章岳光 , 杨陈楹 , 袁华新 , 郑婷婷
- 申请人: 浙江大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
- 专利权人: 浙江大学
- 当前专利权人: 上海高能煜镀科技有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
- 代理机构: 杭州天勤知识产权代理有限公司
- 代理商 曹兆霞
- 主分类号: G02B5/00
- IPC分类号: G02B5/00 ; G02B27/00
摘要:
本发明公开了一种可图形化的宽波段吸收器及其制备方法,包括:(1)根据所需的吸收器带宽和吸收率,对吸收器进行模拟仿真,并优化吸收器中各层薄膜的厚度,以设计获得所需波段的宽波段吸收器;(2)清洗基底,按照设计的各层薄膜的厚度,采用真空镀膜依次在所述基底上沉积金属吸收层、介质‑金属膜堆以及保护层;(3)在所述保护层上依次进行光刻胶旋涂、曝光、显影后,将掩模板图形转移到光刻胶上,以实现宽波段吸收器的图形化;(4)利用氢氟酸缓释液腐蚀去除掉暴露在遮挡胶膜外的保护层,利用铬腐蚀液腐蚀去除保护层下的介质‑金属膜堆和吸收层,以获得可图形化的宽波段吸收器。该方法制备方便,成本低,便于批量化生产。
公开/授权文献
- CN111025439A 一种可图形化的宽波段吸收器及其制备方法 公开/授权日:2020-04-17