- 专利标题: 一种建立OPC模型的方法以及光学邻近修正方法
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申请号: CN201810890982.4申请日: 2018-08-07
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公开(公告)号: CN110824829B公开(公告)日: 2023-06-02
- 发明人: 杜杳隽
- 申请人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 , 中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区张江路18号;
- 专利权人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
- 当前专利权人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区张江路18号;
- 代理机构: 北京市磐华律师事务所
- 代理商 高伟; 翟海青
- 主分类号: G03F1/36
- IPC分类号: G03F1/36 ; G03F7/20
摘要:
本发明提供一种建立OPC模型的方法以及光学邻近修正方法,包括:提供位于掩模版上的光掩膜图形和初始的OPC模型,其中,所述光掩膜图形包括主图形和位于主图形外侧的次分辨率辅助图形,所述初始的OPC模型依据光学透镜系统参数建立;通过所述主图形与高斯函数之间的卷积来描述主图形负载效应,以获得主图形负载函数;通过所述次分辨率辅助图形与高斯函数之间的卷积来描述所述次分辨率辅助图形负载效应,以获得次分辨率辅助图形负载函数;在所述初始的OPC模型中加入所述主图形负载函数和所述次分辨率辅助图形负载函数,以获得最终的OPC模型。
公开/授权文献
- CN110824829A 一种建立OPC模型的方法以及光学邻近修正方法 公开/授权日:2020-02-21