一种高频振荡脉冲磁控溅射方法，包括以下步骤，1)将等待镀膜的样品分别浸泡在丙酮和酒精溶液中超声波清洗，吹干，放置于真空腔内样品工件架上，抽真空，通入氩气；2)开启高频振荡脉冲型靶电源和脉冲负偏压基体电源对样品表面进行离子轰击清洗，离子清洗时间20～40min，3)通入反应性气体，真空腔内真空度达到0.4～1.2Pa，接通可调节电感将脉冲靶电压，薄膜沉积时间20～180min；4)薄膜沉积完成后，关闭高频振荡脉冲电源、脉冲负偏压基体电源、反应气体阀门和工件架旋转机构，待真空腔内温度降至室温后将镀膜样品取出；具有高离化率、制备薄膜组织致密、性能良好的特点。