发明公开
- 专利标题: 一种带状电子注双槽梯形线耦合腔慢波装置
- 专利标题(英): Banded electron beam double-slot trapezoid line coupling cavity slow wave device
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申请号: CN201910640974.9申请日: 2019-07-16
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公开(公告)号: CN110335796A公开(公告)日: 2019-10-15
- 发明人: 王战亮 , 罗瑾璟 , 宫玉彬 , 段兆云 , 巩华荣 , 路志刚 , 潘攀
- 申请人: 电子科技大学
- 申请人地址: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人地址: 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 代理机构: 成都行之专利代理事务所
- 代理商 温利平
- 主分类号: H01J23/24
- IPC分类号: H01J23/24
摘要:
本发明公开了一种带状电子注双槽梯形线耦合腔慢波装置,由多个空腔和腔壁交替连接的线耦合腔体组成,每个腔壁上均开有一个紧贴空腔窄边且与窄边平行的耦合槽,以及一个紧贴空腔宽边且与宽边平行的耦合槽,并在腔中心开有沿与宽边平行的方向耦合槽类似形状的带状电子注通道;沿空腔传输的电磁波由耦合槽耦合至下一空腔,当电子注注入至带状电子注通道运行时,与腔内的高频场电磁波相互作用,以交换能量,高频场电磁波对电子注进行调制,而调制后的电子注交出能量,从而放大放大电磁波。
公开/授权文献
- CN110335796B 一种带状电子注双槽梯形线耦合腔慢波装置 公开/授权日:2021-05-14