发明授权
- 专利标题: 一种基于激光与等离子体的复合抛光方法
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申请号: CN201811504867.5申请日: 2018-12-10
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公开(公告)号: CN109366256B公开(公告)日: 2019-09-10
- 发明人: 刘锋 , 程佳瑞 , 箭旗琳 , 潘国顺 , 张臣
- 申请人: 武汉大学
- 申请人地址: 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学
- 专利权人: 武汉大学
- 当前专利权人: 武汉大学
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市武昌区珞珈山武汉大学
- 代理机构: 武汉科皓知识产权代理事务所
- 代理商 张火春
- 主分类号: B24B1/00
- IPC分类号: B24B1/00 ; B23K26/00 ; B24B41/00
摘要:
本发明公开了一种基于激光与等离子体的复合抛光方法,首先将待加工工件固定在抛光系统工作台上,然后通过激光抛光装置使激光光束汇聚至待加工工件表面形成激光束焦斑然后通过等离子体抛光装置产生常压等离子体束冲击待加工工件表面形成等离子体冲击区域;调节激光光束指向与等离子体冲击方向使激光束焦斑与等离子体冲击区域重叠,对待加工工件表面进行复合抛光;通过多轴移动平台,移动激光束焦斑‑等离子体冲击复合区域完成待加工工件整个表面的抛光。本发明利用等离子体在超快激光加工过程中对材料表面的改性和复合刻蚀作用,提高表面加工质量,解决超快激光表面加工质量不高的瓶颈问题,实现材料表面高质量、高效精细抛光。
公开/授权文献
- CN109366256A 一种基于激光与等离子体的复合抛光方法 公开/授权日:2019-02-22