本发明涉及半导体生产领域，具体地说是一种可扩展连接多台光刻机的涂胶显影设备系统，包括涂胶显影设备、晶圆传输模块、接口站模块和光刻机，其中各个接口站模块通过晶圆传输模块依次串联，所述光刻机与所述接口站模块一一对应连接，涂胶显影设备与起始端的接口站模块相连，所述接口站模块上设有转移晶圆用的接口站机器人，所述晶圆传输模块内设有晶圆传输机构，所述晶圆传输模块两端分别通过可伸缩的框架长度调节组件与两侧的接口站模块连接。本发明具有模块化结构特点，并通过模块堆叠实现两个或多个光刻机的拓展联机功能，同时还能够适应机台间距安装误差。