一种真空贴膜装置，包括：真空腔部；承载膜保持部，承载膜保持部设置在第二腔体内，具有：用于保持承载膜的第一保持件和用于定位承载膜的第一定位部；基材保持部设置在第一腔体内，具有第二保持件及第二定位部，用于定位被保持在第二保持件的基材；检测部，包括检测范围可涵盖承载膜保持部的第一检测部及检测范围可涵盖基材保持部的第二检测部；调整部，对所述承载膜保持部和/或所述基材保持部的位置进行调节；驱动部，包括驱动承载膜保持部与基材保持部相互靠近或相互远离的第一驱动部，及驱动第一腔体及第二腔体闭合或打开的第二驱动部。本发明的真空贴膜装置，能够提高贴膜的良率。