发明公开
CN109155360A 存储器件
审中-实审
- 专利标题: 存储器件
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申请号: CN201780022500.7申请日: 2017-02-03
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公开(公告)号: CN109155360A公开(公告)日: 2019-01-04
- 发明人: 朴在勤 , 李斗荣 , 李承垠
- 申请人: 汉阳大学校产学协力团
- 申请人地址: 韩国首尔市
- 专利权人: 汉阳大学校产学协力团
- 当前专利权人: 汉阳大学校产学协力团
- 当前专利权人地址: 韩国首尔市
- 代理机构: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 延美花; 臧建明
- 优先权: 10-2016-0015139 2016.02.05 KR
- 国际申请: PCT/KR2017/001234 2017.02.03
- 国际公布: WO2017/135767 KO 2017.08.10
- 进入国家日期: 2018-10-08
- 主分类号: H01L43/02
- IPC分类号: H01L43/02 ; H01L43/08 ; H01L43/10 ; G11C11/16 ; H01L43/12
摘要:
本发明公开存储器件,即,在基板层叠下部电极、种子层、合成交换半磁性层、分离层、磁隧道结、覆盖层及上部电极,在上述磁隧道结和覆盖层之间形成扩散阻挡层。并且,本发明公开存储器件,即,在基板层叠下部电极、种子层、合成交换半磁性层、分离层、磁隧道结、覆盖层及上部电极。上述种子层由使上述合成交换半磁性层向面心立方结构(111)方向形成的物质形成。并且,本发明公开存储器件,即,在两个电极之间层叠种子层、合成交换半磁性层、分离层、磁隧道结及覆盖层,上述磁隧道结包括形成于两个自由层之间的插入层,上述分离层、插入层及覆盖层的至少一个由体心立方结构的物质形成。并且,本发明公开存储器件,即,在两个电极之间层叠种子层、合成交换半磁性层、分离层、磁隧道结及覆盖层,上述合成交换半磁性层分别包括一个磁性层及非磁性层。
IPC分类: