发明公开

存储器件
摘要:
本发明公开存储器件,即,在基板层叠下部电极、种子层、合成交换半磁性层、分离层、磁隧道结、覆盖层及上部电极,在上述磁隧道结和覆盖层之间形成扩散阻挡层。并且,本发明公开存储器件,即,在基板层叠下部电极、种子层、合成交换半磁性层、分离层、磁隧道结、覆盖层及上部电极。上述种子层由使上述合成交换半磁性层向面心立方结构(111)方向形成的物质形成。并且,本发明公开存储器件,即,在两个电极之间层叠种子层、合成交换半磁性层、分离层、磁隧道结及覆盖层,上述磁隧道结包括形成于两个自由层之间的插入层,上述分离层、插入层及覆盖层的至少一个由体心立方结构的物质形成。并且,本发明公开存储器件,即,在两个电极之间层叠种子层、合成交换半磁性层、分离层、磁隧道结及覆盖层,上述合成交换半磁性层分别包括一个磁性层及非磁性层。
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