- 专利标题: 一种具有深N+空穴电流阻挡层的光控晶闸管
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申请号: CN201810412675.5申请日: 2018-05-03
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公开(公告)号: CN108615785B公开(公告)日: 2019-09-27
- 发明人: 陈万军 , 邓操 , 夏云 , 高吴昊 , 左慧玲 , 刘超
- 申请人: 电子科技大学
- 申请人地址: 四川省成都市高新西区西源大道2006号
- 专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人: 电子科技大学
- 当前专利权人地址: 四川省成都市高新西区西源大道2006号
- 代理机构: 成都点睛专利代理事务所
- 代理商 孙一峰
- 主分类号: H01L31/111
- IPC分类号: H01L31/111 ; H01L31/0352

摘要:
本发明涉及半导体技术,具体的说是涉及一种具有深N+空穴电流阻挡层的光控晶闸管。本发明的一种具有深N+空穴电流阻挡层的光控晶闸管设计示例,通过改变空穴电流流通路径,使空穴电流绕过阴极左侧电流集中区,来缓解器件内部的电流集中区、使电流分布更加均匀,进而提升器件的耐电流上升率。另外,本发明的深N+空穴电流阻挡层由于自身的优点,可以根据元胞的具体设计方案进行调整。本发明的有益效果为,提供了一种深N+阻挡层的LTT器件设计,解决了常规的LTT器件因主阴极左侧区电流集中而引起的失效问题,同时具有常规器件相同的制作工艺。本发明尤其适用于大脉冲功率应用具有高峰值电流能力和高电流增长能力的光控晶闸管。
公开/授权文献
- CN108615785A 一种具有深N+空穴电流阻挡层的光控晶闸管 公开/授权日:2018-10-02
IPC分类: