发明公开
- 专利标题: 多孔径成像设备及其制造方法以及成像系统
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申请号: CN201680061349.3申请日: 2016-08-18
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公开(公告)号: CN108431661A公开(公告)日: 2018-08-21
- 发明人: 弗兰克·维佩曼 , 布鲁克纳·安德里亚斯 , 安德里亚斯·布劳尔 , 亚历山大·奥伯多斯特尔
- 申请人: 弗劳恩霍夫应用研究促进协会
- 申请人地址: 德国慕尼黑
- 专利权人: 弗劳恩霍夫应用研究促进协会
- 当前专利权人: 弗劳恩霍夫应用研究促进协会
- 当前专利权人地址: 德国慕尼黑
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 闫晔
- 优先权: 102015215837.3 2015.08.19 DE
- 国际申请: PCT/EP2016/069645 2016.08.18
- 国际公布: WO2017/029376 DE 2017.02.23
- 进入国家日期: 2018-04-19
- 主分类号: G02B13/00
- IPC分类号: G02B13/00 ; G02B27/10 ; H04N5/225 ; H04N5/232 ; G02B26/08 ; G02B7/08 ; G02B27/64
摘要:
本发明涉及一种多孔径成像设备,包括:图像传感器;相邻布置的光通道的单行阵列,其中每个光通道包括用于在图像传感器的图像传感器区域上投影目标区域的局部区域的光学器件;以及光束偏转装置,用于偏转光通道的光路。多孔径成像设备包括致动器装置,致动器装置用于产生图像传感器、单行阵列和光束偏转装置之间的相对移动,其中致动器装置被布置为使得其至少部分地布置在由立方体的侧面跨越的两个平面之间,其中立方体的侧面被取向为彼此平行以及与单行阵列的行延伸方向平行和与光通道的光路在图像传感器与光束偏转装置之间的一部分光路平行。立方体的体积处于最小值,并且仍然包括图像传感器、单行阵列和光束偏转装置。
公开/授权文献
- CN108431661B 多孔径成像设备及其制造方法以及成像系统 公开/授权日:2021-07-30