本发明公开一种化学气相沉积炉中的基体支撑装置，包括支撑架、若干个沿着圆周方向设在支撑架上的滚动槽以及设在每个滚动槽中用于支撑基体的滚球，所述支撑架上设有用于限制基体离心甩出的挡块。该基体支撑装置不但可以支撑质量大小不同的基体，且支撑处不会产生无薄膜的缺口，使得基体表面能均匀地一次沉积到所需的薄膜，既提高了基体的表面质量，也降低了生产成本。本发明还公开一种化学气相沉积炉中的基体旋转驱动装置，包括转盘、驱动转盘转动的转盘驱动机构以及若干个基体支撑装置，其中，所述转盘的转动中心构成公转中心，支撑架与转盘之间的转动结构的中心构成自转中心；所述转盘上设有驱动支撑架绕着自转中心转动的自转驱动机构。