一种应用于电子产业腔体设备的铝熔射层的制备工艺
摘要:
本发明提供一种应用于电子产业腔体设备的铝熔射层的制备工艺,结合ARC熔射和flame熔射的工艺优缺点,配合喷砂工艺控制部件表面粗糙度均匀性,以及熔射层之间的结合力强度,达到电子产业腔体设备对结合力、particle方面的生产技术要求。
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