- 专利标题: 一种低通态压降IGBT及其控制方法、制造方法
- 专利标题(英): Low on-state voltage drop IGBT (Insulated Gate Bipolar Transistor) and control method and manufacturing method thereof
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申请号: CN201610943892.8申请日: 2016-11-02
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公开(公告)号: CN108022972A公开(公告)日: 2018-05-11
- 发明人: 徐哲 , 温家良 , 金锐 , 王耀华 , 刘江 , 赵哿 , 高明超 , 崔磊 , 潘艳
- 申请人: 全球能源互联网研究院 , 国家电网公司
- 申请人地址: 北京市昌平区未来科技城北区国网智能电网研究院院内;
- 专利权人: 全球能源互联网研究院,国家电网公司
- 当前专利权人: 全球能源互联网研究院,国家电网公司
- 当前专利权人地址: 北京市昌平区未来科技城北区国网智能电网研究院院内;
- 代理机构: 北京安博达知识产权代理有限公司
- 代理商 徐国文
- 主分类号: H01L29/739
- IPC分类号: H01L29/739 ; H01L29/06 ; H01L29/417 ; H01L21/331 ; H01L21/28
摘要:
本发明提供了一种低通态压降IGBT及其控制方法、制造方法,所述低通态压降IGBT包括栅极、发射极、控制电极和集电极;栅极、发射极和控制电极淀积在N型衬底的有源区;集电极淀积在N型衬底的P+集电区上;所述控制方法包括依据低通态压降IGBT的控制状态确定其工作模式。与现有技术相比,本发明提供的一种低通态压降IGBT及其控制方法、制造方法,通过控制电极的电压值有效抑制空穴流通,从而增加空穴在N‑区的存储量降低IGBT的通态损耗。
公开/授权文献
- CN108022972B 一种低通态压降IGBT及其控制方法、制造方法 公开/授权日:2021-07-23
IPC分类: