发明公开
- 专利标题: 阻气膜及其制造方法、阻气膜层叠体、电子装置用构件、以及电子装置
- 专利标题(英): Gas barrier film, method for producing same, gas barrier film laminate, member for electronic devices, and electronic device
-
申请号: CN201711307028.X申请日: 2012-11-02
-
公开(公告)号: CN107953623A公开(公告)日: 2018-04-24
- 发明人: 岩屋涉 , 藤本泰史 , 田矢直纪 , 伊藤雅春 , 近藤健
- 申请人: 琳得科株式会社
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 琳得科株式会社
- 当前专利权人: 琳得科株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 郭煜; 罗文锋
- 优先权: 2011-241941 2011.11.04 JP
- 主分类号: B32B9/00
- IPC分类号: B32B9/00 ; B32B9/04 ; B32B27/08 ; B32B27/26 ; B32B27/28 ; B32B27/32 ; B32B27/36 ; B32B37/15 ; C08F283/00 ; C08F222/14
摘要:
本发明为阻气膜及其制造方法、将2片以上所述阻气膜层叠而成的阻气膜层叠体、包含所述阻气膜或阻气膜层叠体的电子装置用构件、和具备该电子装置用构件的电子装置,所述阻气膜为具有固化树脂层与该固化树脂层的至少单面上的阻气层的阻气膜,其中,所述固化树脂层是包含含有玻璃化转变温度(Tg)为140℃以上的热塑性树脂(A)、和固化性单体(B)的固化性树脂组合物的固化物的层,阻气膜的水蒸汽透过率在40℃、相对湿度90%气氛下为1g/m2/day以下。本发明的阻气膜和阻气膜层叠体的耐热性、耐溶剂性、层间密合性、和阻气性优异,并且双折射率低、光学各向同性优异,因而可适宜地用作电子装置用构件。