Invention Publication
- Patent Title: 后处理装置
- Patent Title (English): Post processing apparatus
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Application No.: CN201710761457.8Application Date: 2017-08-30
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Publication No.: CN107792716APublication Date: 2018-03-13
- Inventor: 姉崎努
- Applicant: 柯尼卡美能达株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 柯尼卡美能达株式会社
- Current Assignee: 柯尼卡美能达株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京市柳沈律师事务所
- Agent 岳雪兰
- Priority: 2016-170450 2016.09.01 JP
- Main IPC: B65H37/04
- IPC: B65H37/04 ; B65H45/30

Abstract:
本发明提供一种后处理装置,其能够不印刷不需要的标记地控制后处理位置。根据后处理装置(2),控制部(21)从由读取部(22)取得的读取图像检测纸张(P)的端部的位置以及纸张(P)上的图像的位置,基于检测到的纸张(P)的端部的位置和图像的位置,控制后处理部(23)中的后处理位置。
Public/Granted literature
- CN107792716B 后处理装置 Public/Granted day:2020-08-25
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