一种粒状渗硼剂的再生方法及其装置
摘要:
本发明公开了一种粒状渗硼剂的再生方法及其装置,属于材料表面改性材料的回收再利用领域;技术方案为将预处理好的基体放在磁控溅射装备的阳极板上方,采用平面对靶的方式将高纯硅靶放置在阴极的铜背板上;通入氩气到真空室,对真空室和预处理好的基体进行清洗;之后调节电源电压、电流密度以及真空气压进行;本发明使再生后渗硼剂的渗硼效果达到原渗剂的渗层深度;是原来渗硼剂使用次数的3-5倍;镀膜后的渗剂与原材料的渗剂效果大致相同,渗层深度在120-130mm左右;节约了材料,达到循环绿色的经济效益。
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