抗蚀基材、抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法

发明公开

专利标题： 抗蚀基材、抗蚀剂组合物及抗蚀图案形成方法
专利标题（英）： RESIST BASE MATERIAL, RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN
申请号： CN201680020019.X

申请日： 2016-03-17
公开(公告)号： CN107533290A

公开(公告)日： 2018-01-02
发明人: 樋田匠 , 越后雅敏 , 佐藤隆 , 清水洋子
申请人： 三菱瓦斯化学株式会社
申请人地址： 日本东京都
专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
当前专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
当前专利权人地址： 日本东京都
代理机构： 北京林达刘知识产权代理事务所
代理商 刘新宇; 李茂家
优先权： 2015-069991 20150330 JP
国际申请： PCT/JP2016/058519 2016.03.17
国际公布： WO2016/158458 JA 2016.10.06
进入国家日期： 2017-09-29
主分类号： G03F7/004
IPC分类号： G03F7/004 ; C08G83/00

摘要：

含有具有特定结构的化合物和/或将该化合物作为单体而得到的树脂的抗蚀基材。

摘要（英）：

A resist base material containing a compound having a specified structure, and/or a resin obtained using the compound as a monomer.

公开/授权文献

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IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/004	.感光材料（G03F7/12，G03F7/14优先）