发明授权
- 专利标题： 一种宽频带吸波多层薄膜及其制备方法
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申请号： CN201710442593.0申请日： 2017-06-13
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公开(公告)号： CN107342148B公开(公告)日： 2019-04-05
- 发明人: 张丽 , 刘曜铭 , 李梦 , 张敏 , 郑菡雨 , 陆海鹏 , 谢建良 , 邓龙江
- 申请人： 电子科技大学
- 申请人地址： 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 专利权人： 电子科技大学
- 当前专利权人： 电子科技大学
- 当前专利权人地址： 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
- 代理机构： 电子科技大学专利中心
- 代理商 李明光
- 主分类号： H01F10/32
- IPC分类号： H01F10/32 ; H01F41/14
摘要：
本发明涉及磁性材料制备领域，特别涉及一种宽频带吸波多层薄膜及其制备方法。本发明仅使用一种磁性Fe基材料，在衬底上进行光刻，且光刻后的样品在磁控溅射腔体内只需交替溅射即可完成各层薄膜的制备，宽频带吸波多层薄膜制备工艺简单，成本低。
公开/授权文献
- CN107342148A 一种宽频带吸波多层薄膜及其制备方法 公开/授权日：2017-11-10
