发明授权
- 专利标题: 半导体封装结构及其制作方法
-
申请号: CN201610397594.3申请日: 2016-06-07
-
公开(公告)号: CN107170715B公开(公告)日: 2019-08-27
- 发明人: 陈宪章
- 申请人: 南茂科技股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹科学工业园区新竹县研发一路一号
- 专利权人: 南茂科技股份有限公司
- 当前专利权人: 南茂科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹科学工业园区新竹县研发一路一号
- 代理机构: 北京同立钧成知识产权代理有限公司
- 代理商 马雯雯; 臧建明
- 优先权: 105107009 2016.03.08 TW
- 主分类号: H01L23/31
- IPC分类号: H01L23/31 ; H01L23/367
摘要:
本发明提供一种半导体封装结构及其制作方法。半导体封装结构,包括金属片、介电层、图案化线路层、第一芯片以及封装胶体。介电层包覆金属片。介电层具有相对的第一表面与第二表面、位于第一表面上的至少一第一开口以及位于第二表面上的第二开口。金属片位于第二开口内,且分别暴露于第一表面与第二表面。图案化线路层配置于第二表面上。第一芯片配置于金属片上,其中第一芯片位于第二开口内,且电性连接于图案化线路层。封装胶体配置于第二表面上,且覆盖第一芯片与图案化线路层。另提出一种半导体封装结构的制作方法。本发明提供的半导体封装结构整体厚度较薄且具有良好的散热效果。
公开/授权文献
- CN107170715A 半导体封装结构及其制作方法 公开/授权日:2017-09-15
IPC分类: