发明授权
CN107155378B 光电动势装置的制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 光电动势装置的制造方法
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申请号: CN201580066670.6申请日: 2015-05-11
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公开(公告)号: CN107155378B公开(公告)日: 2019-05-10
- 发明人: 佐藤刚彦 , 西村邦彦 , 西村慎也 , 绵引达郎
- 申请人: 三菱电机株式会社
- 申请人地址: 日本东京
- 专利权人: 三菱电机株式会社
- 当前专利权人: 三菱电机株式会社
- 当前专利权人地址: 日本东京
- 代理机构: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
- 代理商 金春实
- 优先权: 2014-254762 2014.12.17 JP
- 国际申请: PCT/JP2015/063432 2015.05.11
- 国际公布: WO2016/098368 JA 2016.06.23
- 进入国家日期: 2017-06-08
- 主分类号: H01L31/18
- IPC分类号: H01L31/18 ; H01L31/0236 ; H01L31/068
摘要:
本发明的目的在于,提供能够抑制开路电压以及填充因数的降低或者电流泄漏的发生的光电动势装置的制造方法。本发明的光电动势装置的制造方法具备:(a)在硅基板(1)的第1主面形成金字塔状的纹理的工序;(b)在第1主面上形成包括第1导电类型的杂质的第1硅酸盐玻璃(8)的工序;(c)在第1硅酸盐玻璃(8)上形成不包括导电型杂质的第2硅酸盐玻璃(9)的工序;(d)使第1硅酸盐玻璃(8)中包括的第1导电类型的杂质扩散到硅基板(1)的第1主面的工序;(e)在第2硅酸盐玻璃(9)上形成包括第1导电类型的杂质的第3硅酸盐玻璃(10)的工序;以及(f)在工序(e)之后使第2导电类型的杂质扩散到硅基板(1)的第2主面的工序。
公开/授权文献
- CN107155378A 光电动势装置的制造方法 公开/授权日:2017-09-12
IPC分类: