发明授权
CN106783997B 一种高迁移率晶体管及其制备方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种高迁移率晶体管及其制备方法
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申请号: CN201611100963.4申请日: 2016-12-05
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公开(公告)号: CN106783997B公开(公告)日: 2019-07-19
- 发明人: 周劲 , 傅云义
- 申请人: 北京大学
- 申请人地址: 北京市海淀区颐和园路5号
- 专利权人: 北京大学
- 当前专利权人: 北京大学
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区颐和园路5号
- 代理机构: 北京万象新悦知识产权代理有限公司
- 代理商 贾晓玲
- 主分类号: H01L29/778
- IPC分类号: H01L29/778 ; H01L29/423 ; H01L21/335
摘要:
本发明公开了一种高迁移率晶体管及其制备方法,属于功能性电子器件领域。该发明利用高迁移率的双层或三层石墨烯薄膜作为电子输运沟道,其导电特性受到应力和掺杂特性调制,当在栅端加电压调节沟道中的电流,从而实现了HEMT器件的功能。且由于双层或三层石墨烯薄膜导电性随掺杂而改变,因此在同一块GaN上能够同时制作N型HEMT和P型HEMT,N型HEMT和P型HEMT构成数字逻辑电路的反相器,实现射频和微波频段的数字逻辑运算的功能。
公开/授权文献
- CN106783997A 一种高迁移率晶体管及其制备方法 公开/授权日:2017-05-31
IPC分类: