发明公开
- 专利标题: 一种In‑Cell触控阵列基板及其制作方法
- 专利标题(英): In-Cell touch control array base plate and manufacturing method thereof
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申请号: CN201611262899.X申请日: 2016-12-30
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公开(公告)号: CN106775108A公开(公告)日: 2017-05-31
- 发明人: 唐丽娟
- 申请人: 武汉华星光电技术有限公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- 专利权人: 武汉华星光电技术有限公司
- 当前专利权人: 武汉华星光电技术有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- 代理机构: 深圳翼盛智成知识产权事务所
- 代理商 黄威
- 主分类号: G06F3/041
- IPC分类号: G06F3/041 ; G06F3/044 ; G02F1/1333
摘要:
本发明提供一种In‑Cell触控阵列基板及其制作方法,该In‑Cell触控阵列基板从下往上依次包括衬底基板、TFT结构层、平坦层、公共电极层、第二层间绝缘层、触控电极层、像素电极绝缘层及像素电极层;其中,TFT漏极上方设有像素电极层过孔,像素电极层覆盖该像素电极层过孔,像素电极绝缘层上设有像素电极层凹槽,像素电极层设于像素电极层凹槽与像素电极层过孔上,且在像素电极层过孔以外的像素电极层的表面,与位于像素电极层凹槽之外的像素电极绝缘层的表面处于同一层面。本发明解决了现有技术中,由于公共电极与像素电极层之间的距离增大,导致公共电极与像素电极层之间形成的储存电容值减小,以致出现信号串扰及漏电等问题。