一种In‑Cell触控阵列基板及其制作方法
摘要:
本发明提供一种In‑Cell触控阵列基板及其制作方法,该In‑Cell触控阵列基板从下往上依次包括衬底基板、TFT结构层、平坦层、公共电极层、第二层间绝缘层、触控电极层、像素电极绝缘层及像素电极层;其中,TFT漏极上方设有像素电极层过孔,像素电极层覆盖该像素电极层过孔,像素电极绝缘层上设有像素电极层凹槽,像素电极层设于像素电极层凹槽与像素电极层过孔上,且在像素电极层过孔以外的像素电极层的表面,与位于像素电极层凹槽之外的像素电极绝缘层的表面处于同一层面。本发明解决了现有技术中,由于公共电极与像素电极层之间的距离增大,导致公共电极与像素电极层之间形成的储存电容值减小,以致出现信号串扰及漏电等问题。
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