发明授权
CN106659449B 断层摄影中的定量暗场成像
失效 - 权利终止
- 专利标题： 断层摄影中的定量暗场成像
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申请号： CN201580043288.3申请日： 2015-08-04
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公开(公告)号： CN106659449B公开(公告)日： 2020-11-24
- 发明人: T·克勒 , B·J·布伦德尔
- 申请人： 皇家飞利浦有限公司
- 申请人地址： 荷兰艾恩德霍芬
- 专利权人： 皇家飞利浦有限公司
- 当前专利权人： 皇家飞利浦有限公司
- 当前专利权人地址： 荷兰艾恩德霍芬
- 代理机构： 永新专利商标代理有限公司
- 代理商 王英; 刘炳胜
- 优先权： 14180751.1 2014.08.13 EP
- 国际申请： PCT/EP2015/067864 2015.08.04
- 国际公布： WO2016/023782 EN 2016.02.18
- 进入国家日期： 2017-02-13
- 主分类号： A61B6/00
- IPC分类号： A61B6/00 ; A61B6/03 ; G01N23/046
摘要：
一种信号处理装置和一种相关的方法。具体地，所述装置包括新颖的图像重建器以根据干涉投影数据(m)来重建样本的横截面图像。所述重建器(RECON)是基于新的前向模型的，所述新的前向模型考虑相衬信号到暗场信号中的串扰。
公开/授权文献
- CN106659449A 断层摄影中的定量暗场成像 公开/授权日：2017-05-10
