Invention Publication
- Patent Title: 减少阻障层电阻面积(RA)的产品与磁性装置应用的垂直磁性各向异性(PMA)的保护
- Patent Title (English): Reduction of barrier resistance area (RA) product and protection of perpendicular magnetic aeolotropism (PMA) applications
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Application No.: CN201580032651.1Application Date: 2015-01-29
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Publication No.: CN106605311APublication Date: 2017-04-26
- Inventor: 刘焕龙 , 朱健 , 皮克宇 , 童儒颖
- Applicant: 海德威科技公司
- Applicant Address: 美国加利福尼亚州密尔必达市山景道678号
- Assignee: 海德威科技公司
- Current Assignee: 台湾积体电路制造股份有限公司
- Current Assignee Address: 美国加利福尼亚州密尔必达市山景道678号
- Agency: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司
- Agent 孙皓晨
- Priority: 14/278,243 20140515 US
- International Application: PCT/US2015/013436 2015.01.29
- International Announcement: WO2015/175027 EN 2015.11.19
- Date entered country: 2016-12-16
- Main IPC: H01L43/12
- IPC: H01L43/12 ; H01L43/08 ; H01F41/30 ; G11C11/16 ; G01R33/09

Abstract:
一种形成具穿隧阻障层的磁性隧穿接合,其公开具有高穿隧磁阻比与低电阻面积值,本方法于邻接穿隧阻障层上下表面的上、下磁性层保留垂直磁性各向异性;其关键特征在于第一镁金属层沉积于下磁性层后采用的最大氧气压力为10‑5托尔的被动氧化程序,第一镁金属层的下半部份(21)仍维持未氧化状态,来保护下磁性层于接续完成穿隧阻障层与磁性隧穿接合的氧化或退火步骤的实质氧化,最上层镁金属层可作为穿隧阻障层于沉积上磁性层前的最上层。
Public/Granted literature
- CN106605311B 减少阻障层电阻面积(RA)的产品与磁性装置应用的垂直磁性各向异性(PMA)的保护 Public/Granted day:2020-04-10
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IPC分类: