发明授权
- 专利标题： 抛光垫及其制造方法
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申请号： CN201510080926.0申请日： 2015-02-15
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公开(公告)号： CN105983900B公开(公告)日： 2019-02-22
- 发明人: 冯崇智 , 姚伊蓬 , 吴文杰 , 宋欣如
- 申请人： 三芳化学工业股份有限公司
- 申请人地址： 中国台湾高雄市
- 专利权人： 三芳化学工业股份有限公司
- 当前专利权人： 三芳化学工业股份有限公司
- 当前专利权人地址： 中国台湾高雄市
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 王华芹
- 主分类号： B24B37/22
- IPC分类号： B24B37/22 ; B24B37/24 ; B24D18/00
摘要：
本发明涉及一种抛光垫及其制造方法，抛光垫包括一高分子弹性体及复数个中空结构体。所述中空结构体均匀分布于该高分子弹性体中，且所述中空结构体的尺寸大致相同。
公开/授权文献
- CN105983900A 抛光垫及其制造方法 公开/授权日：2016-10-05
