- 专利标题: 半导体激光装置的制造方法、拉曼放大器的制造方法、半导体激光装置、拉曼放大器、以及光通信系统
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申请号: CN201480070638.0申请日: 2014-12-04
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公开(公告)号: CN105917534B公开(公告)日: 2017-07-14
- 发明人: 长谷川英明 , 横内则之 , 泽村壮嗣 , 入野聪 , 吉田顺自
- 申请人: 古河电气工业株式会社
- 申请人地址: 日本国东京都
- 专利权人: 古河电气工业株式会社
- 当前专利权人: 古河电气工业株式会社
- 当前专利权人地址: 日本国东京都
- 代理机构: 中科专利商标代理有限责任公司
- 代理商 刘建
- 优先权: 2013-272986 20131227 JP
- 国际申请: PCT/JP2014/082173 2014.12.04
- 国际公布: WO2015/098459 JA 2015.07.02
- 进入国家日期: 2016-06-23
- 主分类号: H01S5/14
- IPC分类号: H01S5/14 ; G02F1/35
摘要:
在半导体激光装置的设计方法中,通过控制从输出侧反射单元到第二反射单元的距离、和用包含半导体激光元件中的光的环绕时间τ、输出侧反射单元的反射率R1以及第二反射单元的反射率R2的κ=(1/τ)×(1‑R1)×(R2/R1)1/2的式定义的向半导体激光元件的有效的返回光量κ,来使LFF周期成为20ns以下,选择该LFF周期成为20ns以下的半导体激光装置,作为出现FBG模式和FP模式的高速切换的半导体激光装,作为在相干崩溃模式下进行振荡的半导体激光装置使用。
公开/授权文献
- CN105917534A 半导体激光装置的设计方法、拉曼放大器的设计方法、半导体激光装置的制造方法、半导体激光装置、拉曼放大器、以及光通信系统 公开/授权日:2016-08-31