半导体激光装置的制造方法、拉曼放大器的制造方法、半导体激光装置、拉曼放大器、以及光通信系统
摘要:
在半导体激光装置的设计方法中,通过控制从输出侧反射单元到第二反射单元的距离、和用包含半导体激光元件中的光的环绕时间τ、输出侧反射单元的反射率R1以及第二反射单元的反射率R2的κ=(1/τ)×(1‑R1)×(R2/R1)1/2的式定义的向半导体激光元件的有效的返回光量κ,来使LFF周期成为20ns以下,选择该LFF周期成为20ns以下的半导体激光装置,作为出现FBG模式和FP模式的高速切换的半导体激光装,作为在相干崩溃模式下进行振荡的半导体激光装置使用。
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