本发明揭示用于检定光刻光罩合格性的方法及设备。光罩检验工具用以从所述光罩的每一图案区域获取不同成像配置的至少两个图像。各自基于来自所述光罩的每一图案区域的至少两个图像重新构建光罩图案。针对每一重新构建的光罩图案，在此重新构建的光罩图案上模型化具有两种或两种以上不同工艺条件的光刻工艺以产生两个或两个以上对应模型化测试晶片图案。各自分析两个或两个以上模型化测试晶片图案以识别所述光罩图案的热点图案，所述热点图案易受改变由此类似热点图案形成的晶片图案的所述不同工艺条件的影响。