发明公开
- 专利标题: 大视场投影光刻物镜
- 专利标题(英): Wide-field projection lithography objective lens
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申请号: CN201410510035.X申请日: 2014-09-28
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公开(公告)号: CN105527701A公开(公告)日: 2016-04-27
- 发明人: 卢丽荣
- 申请人: 上海微电子装备有限公司
- 申请人地址: 上海市浦东新区张东路1525号
- 专利权人: 上海微电子装备有限公司
- 当前专利权人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市浦东新区张东路1525号
- 代理机构: 上海思微知识产权代理事务所
- 代理商 屈蘅; 李时云
- 主分类号: G02B13/06
- IPC分类号: G02B13/06 ; G02B13/00 ; G02B1/00 ; G03F7/20
摘要:
本发明提出了一种大视场投影光刻物镜,采用三种高透材料制成的四组透镜组能够达到2倍放大倍率且视场大的物镜,并且像质量更佳,尤其是波差和像散畸变,此外,采用易加工、成本更低的高透材料,在大幅度提高透过率的同时降低成本。
公开/授权文献
- CN105527701B 大视场投影光刻物镜 公开/授权日:2018-06-29