发明授权
- 专利标题: 荧光X射线分析装置以及其样品显示方法
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申请号: CN201510538448.3申请日: 2015-08-28
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公开(公告)号: CN105388176B公开(公告)日: 2019-12-06
- 发明人: 八木勇夫
- 申请人: 日本株式会社日立高新技术科学
- 申请人地址: 日本东京都
- 专利权人: 日本株式会社日立高新技术科学
- 当前专利权人: 日本株式会社日立高新技术科学
- 当前专利权人地址: 日本东京都
- 代理机构: 中国专利代理(香港)有限公司
- 代理商 秦琳; 陈岚
- 优先权: 2014-173681 2014.08.28 JP
- 主分类号: G01N23/223
- IPC分类号: G01N23/223
摘要:
本发明涉及荧光X射线分析装置以及其样品显示方法。具备:样品台(2),能够设置样品S;样品移动机构,能够移动样品台(2);X射线源,对样品照射一次X射线;检测器,检测从样品产生的荧光X射线;摄像部,对样品台上的样品进行摄像;显示器部(7),在画面中显示所摄像的图像;定点设备,能够在画面中指定特定的位置来输入;图像处理部,在输入的画面中的位置显示标记M;以及控制部,控制样品移动机构和图像处理部,控制部在利用样品移动机构使样品台移动时利用图像处理部使画面中的标记沿与样品台相同的移动方向移动相同的移动距离并显示。
公开/授权文献
- CN105388176A 荧光X射线分析装置以及其样品显示方法 公开/授权日:2016-03-09