发明公开
- 专利标题: 用于在碳纳米管上电镀铜的镀液
- 专利标题(英): Plating solution for plating copper on carbon nano tube
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申请号: CN201510825080.9申请日: 2015-11-24
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公开(公告)号: CN105332016A公开(公告)日: 2016-02-17
- 发明人: 黄有国 , 范海林 , 李庆余 , 王红强 , 顾慈兵 , 孙铭雪 , 陈肇开 , 胡丽娜 , 王龙超
- 申请人: 广西师范大学
- 申请人地址: 广西壮族自治区桂林市七星区育才路15号
- 专利权人: 广西师范大学
- 当前专利权人: 广西师范大学
- 当前专利权人地址: 广西壮族自治区桂林市七星区育才路15号
- 代理机构: 桂林市持衡专利商标事务所有限公司
- 代理商 唐智芳
- 主分类号: C25D3/38
- IPC分类号: C25D3/38
摘要:
本发明公开了一种用于在碳纳米管上电镀铜的镀液,该镀液为铜盐、晶粒细化剂和络合剂的水溶液,具体组成为:铜盐5~50g/L、晶粒细化剂0.1~1.5g/L、络合剂5~50g/L、余量为水。本发明所述镀液仅由铜盐、晶粒细化剂及络合剂组成,配方简单;采用本发明所述特定组成和配比的电镀液可以使纳米铜颗粒非常均匀地包覆在碳纳米管表面,且包覆在碳纳米管表面的纳米铜颗粒粒度在34~38nm。
公开/授权文献
- CN105332016B 用于在碳纳米管上电镀铜的镀液 公开/授权日:2017-11-17