Invention Publication
- Patent Title: 边缘发射的半导体激光二极管及其制造方法
- Patent Title (English): Edge-emitting semiconductor laser diode and method for producing the same
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Application No.: CN201510508859.8Application Date: 2011-09-07
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Publication No.: CN105186286APublication Date: 2015-12-23
- Inventor: A.莱尔 , C.内尔茨 , C.鲁姆博尔茨 , S.哈陶尔
- Applicant: 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
- Applicant Address: 德国雷根斯堡
- Assignee: 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
- Current Assignee: 奥斯兰姆奥普托半导体有限责任公司
- Current Assignee Address: 德国雷根斯堡
- Agency: 中国专利代理(香港)有限公司
- Agent 刘春元
- Priority: 102010046793.6 2010.09.28 DE
- The original application number of the division: 2011800468247 2011.09.07
- Main IPC: H01S5/223
- IPC: H01S5/223

Abstract:
本发明涉及边缘发射的半导体激光二极管及其制造方法。所述边缘发射的半导体激光二极管(1),其具有外延半导体层堆叠(2)和平面化层(3)。所述半导体层堆叠具有基体(2a)和π形截面波导(2b),其中基体(2a)具有用于产生电磁辐射的活性层(2c)。平面化层嵌入到π形截面波导中,使得π形截面波导的表面(21)和平面化层的表面(22)构成平坦的主面(4)。在平面化层和半导体层堆叠(2)之间至少局部地布置蚀刻停止层(6),其中在所述π形截面波导(2b)旁边在两侧横向相间隔地布置有所述半导体层堆叠的半导体层(2d),半导体层(2d)通过沟槽(7)定界,并且平面化层布置在所述沟槽中。
Public/Granted literature
- CN105186286B 边缘发射的半导体激光二极管及其制造方法 Public/Granted day:2018-01-23
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