发明公开
- 专利标题: NOR型闪存存储器及其制造方法
- 专利标题(英): NOR flash memory and manufacture method thereof
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申请号: CN201410150290.8申请日: 2014-04-15
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公开(公告)号: CN104934430A公开(公告)日: 2015-09-23
- 发明人: 永井享浩 , 陈辉煌 , 陈菁华
- 申请人: 力晶科技股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾新竹科学工业园区
- 专利权人: 力晶科技股份有限公司
- 当前专利权人: 力晶积成电子制造股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾新竹科学工业园区
- 代理机构: 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 陈小雯
- 优先权: 103110134 2014.03.18 TW
- 主分类号: H01L27/115
- IPC分类号: H01L27/115 ; H01L21/8247 ; H01L29/423
摘要:
本发明公开一种NOR型闪存存储器及其制造方法,其包括设置在基底上的存储单元。存储单元,包括:堆叠栅极结构、辅助栅极、辅助栅极介电层、淡掺杂区、漏极区。堆叠栅极结构设置在基底上。辅助栅极设置在堆叠栅极结构的第一侧的基底上。辅助栅极介电层设置在辅助栅极与基底之间。淡掺杂区设置在辅助栅极下方的基底中,其中通过在辅助栅极施加一电压而在辅助栅极下方的基底中形成反转层以作为源极区。漏极区,设置在堆叠栅极结构的第二侧的基底中,第一侧与第二侧相对。
公开/授权文献
- CN104934430B NOR型闪存存储器及其制造方法 公开/授权日:2019-02-05
IPC分类: